Дефекты травления, часть 3
(перевод статьи из журнала «The PCB Magazine», январь 2021, автор статьи — Michael Carano,
Рис. 1 Горячая накатка резиста. Углубление в фольге может препятствовать адгезии.
Рис. 1 Иллюстрация подтрава
(AW — ширина с допускоом, если возможна)
Введение
При ежедневном устранении проблем процесса окончательное травление сказывается на многих последующих процессах. Это сказывается на подготовке поверхности, получения рисунка и качестве поверхности меди. Есть связь процесса травления, его влияния и параметров процесса на качество получения рисунка схемы. В публикуемой колонке «Проблемы в вашей ванне» предметом рассмотрения послужат подтрав, перетрав и утоньшение проводника.
Фактор подтрава и перетрава
Рассмотрим различие между подравом и фактором травления. Подтрав это — разница между шириной проявленного проводника (это может быть ширина сконструированного проводника) и окончательная ширина после вертикального травления. Иначе говоря, подтрав это количество удалённой меди сбоку, т. к. травитель работает, устраняя нежелательную медь, и продвигается внутрь (рисунок 1).
Фактор травления — это соотношение разницы ширины медного проводника в наиболее разросшейся и узкой частях после травления, и толщиной вытравленной меди. Фактор травления легко отражается делением значения толщины вытравленной меди на величину вытравленной меди сбоку.
Обратите внимание, на рисунке 1 приведено состояние относящееся к процессу печать и травление (известное как получение рисунка — проявление — травление); та же концепция используется там, где и внешний слой, только с небольшим загибом. С металлорезистом при окончательном травлении подтрав продолжает оставаться проблемой. Однако, избыточный подтрав и общий профиль травления ведут к зависанию гальванического травильного резиста (рисунок 2). Проблема здесь в том, что чрезмерный подтрав способствует облому металлического серебра во время травления, приводя к короткому замыканию. Несмотря на это, факторы — те же.
Рис. 2 Иллюстрация подтрава внешнего слоя
(внимание на разрастание металлорезиста)
Можно посмотреть детализированные требования, относящиеся к проблемам разрастания металла, в стандарте IPC-A-600.
И снова, нужно уделить особое внимание процессу травления для минимального подтрава как на внутренних слоях, так и — на внешних.
Подтрав увеличивается когда толщина медной фольги и гальванической меди возрастает. Задумайтесь о 35 мкм медной фольге и минимум 25 мкм гальванической меди. На практике, электроосаждённая медь часто значительно толще 25 мкм, увеличивая далее возможность подтрава.
Щелочное травление
Что можно ещё предпринять с точки зрения процесса, чтобы минимизировать подтрав? А по наихудшему варианту, что может быть сделано, чтобы сократить значительное сужение проводника или остановить подтравливание? Для ответа на эти вопросы каждый должен рассмотреть все факторы, влияющие на подтрав и общую скорость травления.
Установлено, что факторы подтрава группируются на три категории: химия травления, оборудование травления и другие эффекты, не связанные ни с химизмом, ни с оборудованием. Сюда входят: подготовка поверхности, экспонирование, проявление
Контроль процесса по химикатам и другим рабочим параметрам (температура, плотность, рН
Есть два особых параметра щелочного травления, существенно сказывающихся на подтраве и скорости травления. К сожалению, скорость травления и подтрав двигаются в разных направлениях. Замедление скорости травления меди влияет на производительность, позволяя уменьшить подтрав. Поддержание рН в узком диапазоне 8.0−8.2 — идеально, когда используется щелочное травление для применений
В противоположность, при росте концентрации меди в травителе, плотность возрастает. Комбинация низкого рН и высокой плотности даёт положительный эффект в уменьшении подтрава. Однако, уменьшение подтрава ведёт дорогостоящему замедлению травления меди. Конечно, более высокие температуры травления увеличат скорость, но и увеличат подтрав, соответственно.
Травление внешних слоёв
Есть несколько дополнительных аспектов при использовании травления как части процесса:
Прежде вссего, если подтрав минимален, то меньше возможность нависания (рисунок 3). В этом случае, подтрав — чрезмерный, в некотором роде. Можно видеть, как травитель воздействует на медь, оставляя оловянное покрытие нетронутым. Полоска олова, нависающая с краю проводника, представляет фактор травления. Фактор травления является разницей размеров между плёночным шаблоном и окончательным результатом травления.
Рис. 3 Внешний слой после травления.
(Обратите внимание на чрезмерное нависание)
В последующей колонке будет дальнейшее углубление в окончательное травление, гальваническую металлизацию, подготовку поверхности и получение рисунка.
*************************
По возможному сотрудничеству в технологиях
Электронная почта: office@bmptek.ru
Тел. +7 (921) 895−1422, (921) 994−9502
Управляющий проекта — Алексей Леонов